[코리아포스트 한글판 박수진 기자] 삼성전자는 올해 사상 최대 규모인 46조2천억원을 반도체 생산설비 등 시설 투자에 투입하기로 했다.

삼성전자는 31일 공시를 통해 "올해 3분기 시설투자에 10조4천억원(반도체 7조2천억원, 디스플레이 2조7천억원)을 투입했다"면서 "올들어 3분기까지 누적액은 32조9천억원"이라고 밝혔다.

또 "4분기를 포함한 올해 전체 시설투자 규모는 약 46조2천억원에 달할 것"이라고 덧붙였다.

이는 지난해 시설투자액인 25조5천억원에 비해 무려 81.2% 증가한 것으로, 사상최고치다.

구체적으로는 메모리 사업 부문에서 V낸드 수요 증가 대응을 위해 평택 1라인을 증설하는 한편 D램 공정 전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설을 위한 투자가 이어지고 있다고 설명했다.

또 디스플레이의 경우는 플렉서블 유기발광다이오드(OLED) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이라고 덧붙였다.

회사 관계자는 "4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 것"이라고 말했다.

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